원리 및 개요

• 건 분무 건조의 기본 원리는 간단히, 고온의 기류(hot air stream)안으로 분무 된 제품에서 수분이 제거되는 것이다.
• 고온의 기류는 일반적으로 맨 위에서 chamber로 삽입되고 그곳에서 liquid는 각각의 방울로 분무 된다.
• 고온의 공기와 접촉하면서 particle은 중심에 liquid를 포함하고 있는 딱딱한 외부 표면을 형성한다.
• Particle은 중심부의 액체를 증발시키는 열에 균일하게 노출되면서 chamber 아래로 떨어진다.
• 최초의 건조는 단단한 particle 한 상자 분량 정도를 생산하는 12"(300mm)내의 atomizer에서 이루어지며 , 반면chamber의 길이는 고객이 원하는 분말의 잔여 수분 양에 따라 달라진다.
• 거의 건조가 되면 particle은 chamber의 바닥에 도달한다.Particle 온도는 분말 particle 안에 잔여수분이 남아있는 동안, 배출되는 공기의 온도 보다 더 높은 온도에 도달할 수 없다.
• 열에 민감한 원료를 취급할 경우 이를 반드시 기억해야 한다.
• Particle은 그 후 cyclone 이나 bag filter system과 같은 air stream에서 제거된다.설비는 기본적으로 3개의 부문으로 나뉘는데, feed section, dryer section 과 collection & packaging로 구성되며 각 부문은 고객의 요구에 맞게 변경이 가능하다.

특징

• Orifices와 swirl chamber의 구성은 다양하게 할 수 있어 다양한 흐름과 다양한 분말의 특성을 얻을 수 있다.
• 대규모의 spray dryer는 수동으로 세척하는 것이 불가능해 CIP 시스템을 설치해야 한다.

용도

• 식품, 농약, 의료, 화학, 산업 폐기물